在材料分析表征领域，除了要获得样品表面的成分外，人们还希望了解样品在纵深方向上，不同成分是如何分布，以全面掌握样品的各种信息;X-光电子能 谱仪(X-ray Photoelectron Spectroscopy 简称XPS)，作为一种常规样品表面成分表征手段，除了可以提供样品表面的成分和元素的化学状态，还可以配合 溅射离子枪，对样品进行逐层剥离，获取样品在深度方向的成分和化学态信息 。最常规的是Ar离子枪，目前，PHI GENESIS500 除了提供高性能Ar离子枪外，还可以根据用户特殊的应用需求，提供C60离子枪(10kV，20kV两种)、和气体团簇离子枪 Ar-2500(GCIB)供选配，实现自动化深度剖析。

基本原理

样品深度剖析就是在采用溅射离子枪(Ar, C60 或 者Ar2500)对样品表面进行溅射剥离，然后，使用X-射线照射样品表面，激发光电子发射，通过能量分析器分析溅射后样品表面的光电子动能， 从而得知该层中元素的信息。如此交替进行，即溅射、分析不断交替(如上封面图所示)，就可以得到样品中每一层的元素信息。有时候，为了提高样品的深度剖析的分辨率，常常采用边旋转边溅射的模式(Zalar Rotation为ULVAC-PHI光电子能谱仪的标准配置)，这样可以很好地避免不同元素的择优溅射问题。

深度剖析

X-射线光电子能谱(XPS)的深度分析功能，拓展了XPS的应用功能，除了可以表征样品表面分析的成分，也可在纵深方向上给出材料中的元素分布状况。具备溅射功能的光电子能谱仪已成商用仪器的标准配置。PHI Genesis 500 XPS可实现高性能的自动化深度剖析。聚焦X射线源、高灵敏探测器、高性能氩离子枪和高效双束中和系统可实现全自动深度剖析，包括在同一个溅射刻蚀坑内进行多点同时分析，详细的配置以及样品测试可以联系李工：19829651059！