PHI Genesis (Model 500 for XPS / Model 900 for HAXPES) 是最新一代配置了全自动多功能扫描聚焦X 射线光电子能谱，易操作式多功能选配附件，能够实现全自动样品传送停放，同时还具备高性能大面积和微区XPS 分析，快速精准深度剖析，为电池、半导体、有机器件以及其他各领域提供全面解决方案。

关键技术

• 易操作式多功能选配附件
• 全自动样品传送停放
• 高性能大面积和微区XPS 分析
• 快速精准深度剖析

• 为电池、半导体、有机器件以及其他各领域提供全面解决方案

应用领域

主要应用于电池、半导体、光伏、新能源、有机器件、纳米颗粒、催化剂、金属材料、聚合物、陶瓷等固体材
料及器件领域。
用于全固态电池、半导体、光伏、催化剂等领域的先进功能材料都是复杂的多组分材料，其研发依赖于化学结
构到性能的不断优化。ULVAC-PHI,Inc. 提供的全新表面分析仪器“PHI GENESIS” 全自动多功能扫描聚焦X 射线

光电子能谱仪，具有卓越性能、高自动化和灵活的扩展能力，可以满足客户的所有分析需求。

简单易操作

PHI GENESIS 提供了一种全新的用户体验，仪器高性能、全自动化、简单易操作。
操作界面可在同一个屏幕内设置常规和高级的多功能测试参数，同时保留诸如进样照片导航和SXI 二次电子影

像精准定位等功能。

简单友好的用户界面

PHI GENESIS 提供了一个简单、直观且易于操作的用户界面，对于操作人员非常友好，操作人员执行简单的设置操作即可完成包括所有选配附件在内的自动化分析。

多功能选配附件

原位的多功能自动化分析，涵盖了从LEIPS 测试导带到HAXPES 芯能级激发的全范围技术，相比于传统的XPS 而言，PHI GENESIS 体现了前所未有的性能价值。

多数量样品大面积分析

• 把制备好样品的样品托放进进样腔室后将自动传送进分析腔室内

• 可同时使用三个样品托，标准样品托40mm*40mm

• 80mm×80mm 的大样品托可放置多数量样品
• 可分析粉末、粗糙表面、绝缘体、形状复杂等各种各样的样品

大幅提升的二次电子影像（SXI）
二次电子影像（SXI）精准零误差定位，保证了所见即所得。卓越的5μmX 射线束斑为微区XPS分析应用提供了新的机遇。

• 快速深度剖析

  PHI GENESIS 可实现高性能的深度剖析。聚焦X 射线源、高灵敏度探测器、高性能氩离子枪和高效双束中和系统可实现全自动深度剖析，包括在同一个溅射刻蚀坑内进行多点同时分析。

• 无需溅射刻蚀的深度探索

  下一代透明发光材料使用直径约为10nm~50nm 的纳米量子点（QDs），结合使用XPS（Al Kα X 射线）和HAXPES（Cr Kα X 射线）对同一微观特征区域进行分析，可以对QDs 进行详细的深度结构分析。XPS 和HAXPES 的结合使用，可以对纳米颗粒进行深度分辨、定量和化学态分析，从而避免离子束溅射引起的损伤。来源CoreTech官网